LEGANTI PER STUCCATURA E
RESTAURO PITTORICO

La stuccatura rappresenta un intervento fondamentale per restituire continuità strutturale e volumetrica alla superficie dell'opera. Il materiale scelto deve essere compatibile dal punto di vista chimico-fisico e rappresentare una superficie sacrificabile rispetto al materiale originale. Su questi aspetti, la silice nanostrutturata rappresenta una soluzione migliorativa rispetto a stuccature a calce o all'utilizzo di resine organiche
Ritoccare pittoricamente significa reintegrare lacune o zone danneggiate per restituire una lettura unitaria all'immagine. Un legante minerale, a differenza dell'acquerello (che usa gomma arabica come legante), offre maggiore stabilità chimico-fisica nel tempo, resistenza all'umidità e ai raggi UV, integrandosi meglio con la natura inorganica di molti supporti antichi come intonaci, affreschi e ceramiche. Questo garantisce una durabilità superiore e una minore alterazione nel tempo del ritocco.
I prodotti rispondo ai requisiti CAM DNSH.

SOLUZIONE WS100

Soluzione

WS100

Legante minerale a base di silice nanostrutturata veicolata in acqua, ideale per operazioni di stuccatura, microsturccatura e riempimento nel restauro di terracotta o materiale lapideo naturale e artificiale. Compatibile con inerti come cocciopesto, polvere di marmo, silice micronizzata.

Legante

SIOX-5 REpaint

Legante minerale a base di silice funzionalizzata veicolata in alcol isopropilico e acetato di etile, compatibile con dipinti murali a secco, affreschi, materiali ceramici, supporti di natura vetrosa e substrati minerali in genere. Idoneo per applicazioni in ambiente esterno e superfici soggette a dilavamento.

Legante

SIOX-5 REPAINT V2

Legante minerale a base di silice amorfa veicolata in alcol isopropilico e acetato di etile, compatibile con dipinti murali a secco, affreschi, materiali ceramici, supporti di natura vetrosa e substrati minerali in genere. Idoneo per applicazioni in ambiente interni, ipogei o semi-ipogei ad alto tasso di umidità e presenza di sali.